ASML表示，根据目前的订单信息和需求，预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV光刻机。

其中英特尔和三星最近都提高了光刻机订单量，英特尔将High-NA EUV的订购量从1台提高到2台，EUV订购量从3台提高到5台。

三星也将EUV的订购量从原本的5台提高到7台。

2027年ASML要对SK海力士交付的EUV光刻机数量就占了20台，同时也将High-NA EUV订购量从1台提高到2台。

计划在未来两年内安装好20台EUV光刻机，为HBM及先进存储解决方案所采购。

虽然英特尔很可能是首个在量产过程中导入High-NA EUV光刻技术的半导体制造商。

三星和SK海力士正在迎头赶上。

特别是SK海力士，以目前的产能扩张速度，预计将需要更多的厂房安装光刻。

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