据媒体传来消息，荷兰光刻机巨头公司ASML（阿斯麦）原先在2019年底之前供应EUV微影设备给中芯国际的计划要暂时中止。

ASML公司对外表示因荷兰政府正在处理EUV出口到中国的延续/延期的请求，暂时无法将EUV运送到中国。

有相关业内人士表示ASML是为了避免因其供应最先端技术设备给中国，从而刺激到美国。

阿斯麦（ASML）为何断供？

阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂，除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外，国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。

据了解，ASML营收占比最高的国家是韩国（约35%），其次就是中国，去年有将近20%的营收来自中国，增长十分迅速，主力就是中芯国际。美国相关公司在ASML去年销售额中的占比约为16%，主要来自英特尔和镁光。

按照媒体报道，中芯国际的这台EUV微影设备最迟2018年5月才下下单给ASML。因为光刻机造价高昂、年产量非常有限，所以ASML采取按订单排产，这个周期一般是18个月左右。

而此前有消息称美国致电台积电，让其拒绝为华为提供芯片，当然这条消息后面已经澄清，但是美国欲制约大陆半导体产业崛起的目的十分强烈。

长期看，中国大陆芯片设计公司寻求大陆代工是必然趋势。而作为中国半导体代工龙头，中芯国际产能充足、产线多样，适合众多芯片代工需求，但是此次如果真的被断供了EUV设备，在先进制程方面恐会有落后，会满足美国压制中国先端技术的目的。

但ASML推迟向中国中芯国际的发货是源自于美国当局的直接或间接压力尚未得到实锤，还需要下一步消息才可确认。

中芯国际是否会受到重创？

EUV（极紫外光刻）是生产7nm 以下制程所必要的技术，在主流微电子制造过程中，光刻属于最复杂、奢侈昂贵和关键的工艺，占制程总成本的1/3;就当前的28nm工艺就需要20道以上光刻步骤，耗费时间约占整个工艺的40-60%。

光刻工艺技术决定着整个芯片工艺的特征、尺寸，也代表着工艺技术发展水平。由于高技术要求，光刻机制造难度极大，全世界只有少数几家公司能够制造，主要有阿斯麦（ASML）、Nikon和 Canon等。

当然，国内也有光刻机厂商，例如上海微电子、中电科集团四十五研究所、合肥芯硕半导体等，但由于技术难度巨大,短期内还是处于相对劣势的地位。

在45纳米以下制程的高端光刻机市场中，阿斯麦占据80%以上的市场份额，而在EUV光刻机领域，目前处于绝对垄断地位，市占率为100%，处于独家供货的状态。

中芯国际（SMIC）是今年才开始进行14nm产品的测试量产，EUV设备对于追赶台积电的计划起到相当关键的一环，无法拿到ASML供应的EUV微影设备虽然不会立即对其业绩带来重创，但追赶计划恐将遥遥无望。

最近美国为遏制中国技术的崛起，动作频频，ASML此次动作身后是否有美国的影子？尽管此事没有实际让中国技术崛起遭到打击，但相信ASML不愿意为了应和美国而失去中国这个强大有力的合作伙伴。