NVIDIA宣布TSMC与Synopsys将NVIDIA cuLitho运算式微影平台投入生产，通过GPU加速运算取代CPU，将能使半导体产业运算密集型工作负载加速40至60倍，加速芯片制造，而NVIDIA Blackwell GPU也将成为受益者。

NVIDIA也推出全新生成式AI算法增强cuLitho，相较当前基于CPU的方式显著改善半导体制造流程。

cuLitho运算式微影技术2023年宣布，由NVIDIA与台积电、新思科技合作的技术，通过GPU加速运算的cuLitho应用于半导体微缩，相较以往通过CPU执行微影运算更具效率。

传统利用CPU进行微影运算，一组典型光罩就需要超过3,000万以上小时的运算时间，以NVIDIA加速运算取代传统CPU进行微影运算，仅需350个NVIDIA H100系统即可取代4万个CPU系统，不仅加快生产时间，并能降低成本、空间与能耗。

去年宣布cuLitho后，台积电与NVIDIA在共享工作流程测试为光罩图形的创新图形化技术带来突破，共同于曲线实现45倍加速，相较限制为水平或垂直传统曼哈顿流程更时间60倍改善。

新思科技在NVIDIA cuLitho软件库上执行的Synopsys Proteus光学邻近修正（OPC）软件可显著加快运算工作负载。

借助Proteus光罩合成产品，台积电等制造商可以在邻近校正、修正模型构建以及分析已修正和未修正集成电路设计图案的邻近效应方面实现卓越的精度、效率和速度，从而彻底改变芯片制造制程。

NVIDIA也开发新算法，将生成式AI与cuLitho结合，使新版cuLitho加速流程额外提供2倍加速；生成式AI可考量光的绕射，建构近乎完美的反向式光罩或反向式解决方案，并通过传统且物理严谨的方式得出，将光学邻近修正的程序加快两倍。

借由cuLitho，将助晶圆厂在开发2nm以及以下制程设计出更新颖的解决方案。

点击此处关注，获取最新资讯！