近期,佳能发布新闻稿宣布,已于13日开卖采用「纳米压印;NIL)」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的设备「FPA-1200NZ2C」。Canon指出,NIL设备可用来生产现行最先进的5nm逻辑芯片,且经由改良,期待可进一步用来生产2nm产品。而据财联社10月16日消息,由佳能引发的纳米压印概念股持续发酵,创业板汇创达拉升涨超15%,美迪凯、苏大维格等继续冲高。有别于现行的光刻机设备须藉由曝光、将电路图案烧在晶圆上,NIL技术则是可像印章一样、直接将图案压印在晶圆上,因可一次性就形成电路,缩短制程时间、更省电。佳能在10年前就和日本光罩厂大日本印刷、铠侠携手研发NIL技术。日本政府自7月起加强高性能芯片制造设备的出口管制,而关于佳能的NIL设备是否在管制对象内,佳能避谈、仅表示会遵照法规规范来执行。
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