据韩媒TheElec报道，SK海力士计划将Inpria的金属氧化物抗蚀剂（MOR）用于生产第6代10nm（1c）DRAM。芯片制造商预计将使用该光刻胶在1c DRAM上绘制最细的线条。消息人士称，SK海力士的1c DRAM有五个极紫外（EUV）层，其中一个将使用MOR绘制。与此同时，三星也在考虑在自己的1c DRAM中使用Inpria的MOR。Inpria是日本化学公司JSR的子公司，也是无机光刻胶的领导者。自2022年以来，该公司一直与SK海力士合作进行MOR研究。SK海力士此前曾表示，氧化锡抗蚀剂的使用将有助于提高未来DRAM的性能并降低成本。
点击此处关注，获取最新资讯！
我的评论
最新评论