而据台媒《工商时报》消息，半导体逻辑先进制程将在2024年后进入2纳米时代，后续制程推进将开始进入埃米时代（1埃米=0.1纳米）。为了支持台积电、英特尔、三星等半导体厂的制程延续，光刻机设备厂ASML已投入研发更高精准度的高数值孔径（High-NA）曝光设备。

被三星抢走王座的英特尔19日宣布，向ASML下订业界首台High-NA量产型EUV光刻机EXE：5200，报价逾3.4亿美元，2025年进入生产。据称，这款具备High-NA的EUV大量生产系统，每小时晶圆曝光产能可达200片以上。

此外，设备业者指出，台积电早已向ASML采购High-NA研发型EUV光刻机：5000，随着位于竹科宝山的2纳米晶圆厂Fab 20开始启动建厂计划，预期2022年内就会跟进对ASML下订High-NA量产型EUV光刻机。

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