非挥发性存储发明人施敏11月6日离世，享寿87岁。

台积电今天表示，对于施敏离世深感惋惜，施敏在全球半导体产业居功甚伟，其在非挥发性存储的钻研成果对整体产业影响深远，并见证台湾半导体产业发展与茁壮。

台积电指出，他在台湾半导体产业发展历程中浓重的一笔，不仅在台湾半导体产业的开创时期提供重要建议，见证产业的发展与茁壮，更是现今业界诸多优秀人才的关键启蒙，对产业永续发展功不可没。

董事长刘德音说，施敏启蒙了70年代台湾半导体优秀的一代人才，其共同著作“半导体元件物理学”为全球许多世代的莘莘学子及科学家半导体研发的重要资源。感念施敏一生对人才培育的奉献，向其家人致以深切慰问。

1936年出生于上海的施敏，早年生活充满求知欲和对科学的热情。12岁随父母来台，台大电机工程毕业后，赴美国留学，取到博士学位后，投入贝尔实验室从事半导体研究。1990年，他到阳明交大任讲座教授，2010年获颁终身讲座教授。阳明交大指出，施敏在学校任教逾30年，为学生带来世界级的前瞻视野。

施敏的成就与贡献，备受国际推崇。1991年获IEEE J.J. Ebers奖、2017年获IEEE最负盛名的Celebrated Member Award；是少数当选中央研究院院士、美国国家工程院院士以及中国工程院外籍院士的三院院士；并获得全球“快闪存储高峰会（Flash Memory Summit）”终身成就奖以及“未来科学大奖”。

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