晶瑞股份公告称，公司顺利购得ASML的XT 1900 Gi型光刻机一台，并于2020年1月19日运抵苏州，搬入公司高端光刻胶研发实验室。

据悉，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“公司”）于 2020 年 9 月 28 日召开了第二届董事会第二十八会议，审议通过了《关于购买设备的议案》，为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目。2020年9月29日，晶瑞股份公告，拟通过代理商进口韩国芯片厂商SK海力士的一台阿斯麦的光刻机，总价1102.5万美元。

自公司开展设备采购活动以来，受到投资者广泛密切关注。经公司多方协商、积极运作，顺利购得 ASML XT 1900 Gi 型光刻机一台。下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。据晶瑞股份介绍，公司致力于光刻胶产品的研发和生产，光刻胶产品类型覆盖高中低分辨率的 I 线、G 线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类型，应用行业涵盖 IC、TFT-array、LED、Touch panel、先进封装等领域。

目前高端集成电路材料的核心产业化技术仍掌握在国外企业手中，大部分市场份额仍被外企所占据，不少集成电路用关键材料已经成为我国“卡脖子”的技术领域，在国际环境日益严峻的情况下，如不能成功实现该领域的国产化，未来将付出更大的代价。公司量产光刻胶近 30 年，组建了国内领先的光刻胶研发团队，具有丰富的光刻胶研发和生产经验，先后承担了国家“85”攻关、“863”重大专项、科技部创新基金等科技项目、承担了国家 02 重大专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目，并顺利通过国家 02 重大专项验收。公司完成中试的 KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到 0.15μm 的分辨率。

（图片来源于晶瑞股份）

浸入式光刻是在光刻机投影镜头与半导体硅片之间用一种液体充满，从而获得更好分辩率及增大镜头的数值孔径，进而实现更小曝光尺寸的一种新型光刻技术。本次购买的 ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的 ArF 光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到 ArF 光刻胶的跨越，并最终实现应用于 12 英寸芯片制造的战略布局。

据晶瑞股份介绍，公司采购的光刻机设备为 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达 28nm 的高端光刻胶。本次公司采购的 ASML 光刻机设备的顺利交付，可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，有助于落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

据悉，苏州晶瑞化学股份有限公司是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司，为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务。主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等，广泛应用于半导体、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光伏等新能源行业。

荷兰ASML公司是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。2020年10月，阿斯麦光刻机在中国大陆地区大大小小装机有700台，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。

据荷兰光刻机制造商ASML公布的2020年第三季度财报，第三季度净销售额金额为40亿欧元，净利润金额为11亿欧元，毛利率达到47.5%。第三季度的新增订单金额为29亿欧元。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示，预计公司第四季度的销售额将在36亿欧元到38亿欧元之间，毛利率约在50%，5G、人工智能和高性能计算将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求，这都需要使用到先进的光刻机。

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