日本铜箔大厂宣布扩产,产能目标翻倍

2026-11-11
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据闪德资讯获悉,随着生成式AI快速普及,AI服务器及高速通信设备对高频电路板的需求持续增长,带动高端HVLP铜箔供需趋紧。


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近日,日本高端电解铜箔厂商古河电工宣布,将扩大日本及中国台湾地区的产能布局,以应对市场需求。


根据公司公告,HVLP4铜箔目前供不应求。为匹配客户订单及中长期需求,古河电工计划在日本栃木县今市东工场,以及中国台湾云林县斗六市的生产基地推进扩产,目标是在2029财年末,将HVLP4铜箔(商品名:F0X-WS箔)产能提升至2026财年末(截至2027年3月31日)的两倍。


HVLP4属于第四代超低轮廓铜箔,具有表面粗糙度低、信号传输损耗小等特点,主要应用于AI服务器、高速交换机及光模块等高频PCB。


古河电工表示,尽管公司此前已通过提升现有工厂效率增加供应,但市场需求仍超过现有产能,未来将继续提高高端铜箔产能及高附加值产品占比,并推进下一代HVLP5铜箔的上市准备。


东吴证券预计,2026年全球AI服务器专用HVLP铜箔需求将达到2.4万吨,同比增长260%;2027年有望进一步增至5万吨。随着AI算力及高速通信基础设施持续建设,高端铜箔需求有望保持增长。


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