据闪德资讯获悉，力积电宣布，受存储器市场景气快速回暖推动，在与美光科技签署战略合作协议后，公司正式启动DRAM制程工艺提升计划，旨在响应下游存储器IC设计客户对高容量、高速度DRAM产品的迫切需求，把握市场供需缺口带来的发展机遇。

目前力积电新竹12英寸晶圆厂已具备月产5万片存储器芯片的产能规模，主要采用2x纳米制程技术为客户提供DRAM、Flash代工服务。

受全球AI算力需求爆发影响，DRAM市场呈现持续供不应求态势，客户订单增长迅猛，促使公司加速推进存储器产线技术升级。

力积电指出，为争取时效，董事会已于日前针对投资新设备提升DRAM制程的规划通过增资案，配合铜锣厂售予美光、双方策略合作的合约在第二季签订，待力积电2026年度股东常会通过后，将根据经营团队的规划尽速展开设备采购作业，将该公司P3厂现有月产逾3万片的DRAM生产线升级。

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