据闪德资讯获悉，Lam Research的存储业务，2025财年第三季度，存储业务收入同比增长近24%，达到13.1 亿美元。

这主要得益于客户从低层NAND设备向256层的转型，以及技术转型带来的强劲需求。

为了满足AI工作负载所需的海量输入输出速度，芯片需求的增长进一步推动了NAND收入的增长。

NVM部门第三季度的销售额同比增长约21%。

DRAM部门的增长得益于客户对HBM的需求转变，以及DDR5的采用率不断上升，这推动了对蚀刻和沉积工具的需求。

此外，DRAM客户正在升级现有设备并将重新用于新应用，这推动了支持此类工作的客户支持业务集团 (CSBG) 部门的发展。

DRAM部门第三季度收入同比增长26.7%。

Lam Research正通过创新技术确保业务面向未来。

近期推出的原子层沉积 (ALD) 创新技术，例如ALTUS Halo系统和Striker SPARC ALD，正受到客户的青睐；Akara刻蚀系统亦是如此。

该系统在推出后不久便赢得了一家重要客户的多项应用。

目前正大力投资DDR5、LPDDR5和HBM技术工艺的升级。

尽管美国对华实施贸易限制，该公司仍能保持收入持续增长，因为DRAM和NAND技术的主要客户来自韩国和中国台湾。

合计贡献了LRCX第三季度48%的收入，而中国大陆贡献了31%。

凭借美光科技、三星、SK海力士和TSMC等大型芯片制造客户，Lam Research的存储业务预计将保持稳定增长。

应用材料（AMAT）是Lam Research在关键晶圆制造阶段（包括沉积、蚀刻、化学机械抛光（CMP）和检测）的直接竞争对手。

应用材料公司为存储器和代工/逻辑市场（例如LRCX）提供工艺，并拥有强大的客户群和服务业务，可与Lam Research的CSBG相媲美。

在更广阔的市场中，Lam Research的竞争对手是ASML，后者是一家光刻设备供应商，专攻极紫外光刻技术。

由于Lam Research正从主要的蚀刻和沉积技术转向EUV光刻技术和干法光刻胶技术，LRCX面临着来自ASML的激烈竞争。

应用材料和ASML的DRAM技术需求均大幅增长。

ASML强劲的产品需求主要源于DRAM和逻辑芯片客户，这些客户正在使用ASML的NXE:3800E EUV系统加速先进工艺节点的开发。

应用材料管理层预计，2025财年来自先进DRAM客户的收入将增长40%以上。

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